關于塑料(liao)模具它(ta)有很(hen)多種(zhong)拋光方法，今(jin)天我們就(jiu)來具體的介紹一(yi)下。

   機械拋光

   機(ji)械拋(pao)(pao)(pao)光是靠切削(xue)、材料表面塑性變形去掉被拋(pao)(pao)(pao)光后(hou)的(de)(de)凸部(bu)而得(de)到(dao)平(ping)滑(hua)面的(de)(de)拋(pao)(pao)(pao)光方(fang)(fang)(fang)法，一般使用油石條、羊毛輪、砂紙(zhi)等，以手工操縱為(wei)主，特(te)(te)殊零(ling)件如回轉(zhuan)體表面，可使用轉(zhuan)臺等輔助工具，表面質量要求高(gao)(gao)的(de)(de)可采用超(chao)精(jing)(jing)研(yan)拋(pao)(pao)(pao)的(de)(de)方(fang)(fang)(fang)法。超(chao)精(jing)(jing)研(yan)拋(pao)(pao)(pao)是采用特(te)(te)制的(de)(de)磨具，在含有(you)磨料的(de)(de)研(yan)拋(pao)(pao)(pao)液中，緊壓在工件被加工表面上(shang)，作高(gao)(gao)速旋轉(zhuan)運(yun)動。利用該技術可以達到(dao)Ra0.008μm的(de)(de)表面粗拙度，是各種拋(pao)(pao)(pao)光方(fang)(fang)(fang)法中最(zui)高(gao)(gao)的(de)(de)。光學鏡片(pian)模(mo)具常采用這種方(fang)(fang)(fang)法。

   化(hua)學拋(pao)光

   化(hua)學(xue)(xue)拋(pao)光(guang)是(shi)讓材料(liao)在(zai)化(hua)學(xue)(xue)介質中(zhong)表(biao)(biao)面微觀(guan)凸出的(de)(de)部(bu)門(men)較凹(ao)部(bu)門(men)優先溶解，從而得到(dao)平滑(hua)面。這種方法的(de)(de)主要(yao)長處(chu)是(shi)不需復雜設備，可以(yi)拋(pao)光(guang)外形復雜的(de)(de)工件(jian)，可以(yi)同時拋(pao)光(guang)良多(duo)工件(jian)，效(xiao)率高(gao)。化(hua)學(xue)(xue)拋(pao)光(guang)的(de)(de)核(he)心題(ti)目(mu)是(shi)拋(pao)光(guang)液的(de)(de)配制。化(hua)學(xue)(xue)拋(pao)光(guang)得到(dao)的(de)(de)表(biao)(biao)面粗拙度(du)一般為數10μm。

   電解拋(pao)光

   電解(jie)拋光基(ji)本原理與(yu)化(hua)學拋光相同(tong)，即(ji)靠選擇性(xing)的溶解(jie)材(cai)料表(biao)面(mian)(mian)微小凸出部門，使表(biao)面(mian)(mian)光滑(hua)。與(yu)化(hua)學拋光比擬，可以消(xiao)除陰極(ji)反應的影響，效果較(jiao)好。電化(hua)學拋光過程分(fen)為兩步(bu)(bu)： （1）宏觀整平(ping) 溶解(jie)產物向電解(jie)液中擴散(san)，材(cai)料表(biao)面(mian)(mian)幾何粗拙(zhuo)下(xia)降，Ra＞1μm。 （2）微光平(ping)整 陽極(ji)極(ji)化(hua)，表(biao)面(mian)(mian)光亮度進步(bu)(bu)，Ra＜1μm。

   超聲波拋光

  將工(gong)(gong)(gong)件放入(ru)磨(mo)料懸浮液(ye)(ye)中并一起置于(yu)超(chao)(chao)聲(sheng)(sheng)(sheng)波(bo)場(chang)中，依賴超(chao)(chao)聲(sheng)(sheng)(sheng)波(bo)的振蕩作用，使磨(mo)料在工(gong)(gong)(gong)件表(biao)面(mian)(mian)磨(mo)削(xue)拋光。超(chao)(chao)聲(sheng)(sheng)(sheng)波(bo)加(jia)工(gong)(gong)(gong)宏觀力小，不會引起工(gong)(gong)(gong)件變形(xing)，但(dan)工(gong)(gong)(gong)裝(zhuang)制作和(he)安裝(zhuang)較(jiao)難題。超(chao)(chao)聲(sheng)(sheng)(sheng)波(bo)加(jia)工(gong)(gong)(gong)可以與化(hua)學(xue)或(huo)電(dian)化(hua)學(xue)方法結合。在溶液(ye)(ye)侵(qin)(qin)蝕(shi)、電(dian)解(jie)的基礎(chu)上，再施加(jia)超(chao)(chao)聲(sheng)(sheng)(sheng)波(bo)振動攪(jiao)拌溶液(ye)(ye)，使工(gong)(gong)(gong)件表(biao)面(mian)(mian)溶解(jie)產物脫離，表(biao)面(mian)(mian)四周(zhou)的侵(qin)(qin)蝕(shi)或(huo)電(dian)解(jie)質平均；超(chao)(chao)聲(sheng)(sheng)(sheng)波(bo)在液(ye)(ye)體(ti)中的空化(hua)作用還能夠(gou)按捺(na)侵(qin)(qin)蝕(shi)過程，利于(yu)表(biao)面(mian)(mian)光亮(liang)化(hua)。

   流體拋光

   流(liu)體(ti)拋(pao)光(guang)是依(yi)賴高(gao)速活動(dong)的(de)液(ye)體(ti)及其(qi)攜帶的(de)磨(mo)(mo)粒沖洗工(gong)件(jian)(jian)表面達到拋(pao)光(guang)的(de)目的(de)。常用方(fang)法(fa)有：磨(mo)(mo)料(liao)(liao)(liao)噴射加工(gong)、液(ye)體(ti)噴射加工(gong)、流(liu)體(ti)動(dong)力研磨(mo)(mo)等。流(liu)體(ti)動(dong)力研磨(mo)(mo)是由液(ye)壓(ya)驅動(dong)，使攜帶磨(mo)(mo)粒的(de)液(ye)體(ti)介質(zhi)高(gao)速往復流(liu)過(guo)工(gong)件(jian)(jian)表面。介質(zhi)主要(yao)采(cai)用在(zai)較(jiao)低壓(ya)力下流(liu)過(guo)性好的(de)特殊化合物(wu)（聚合物(wu)狀(zhuang)物(wu)質(zhi)）并摻上磨(mo)(mo)料(liao)(liao)(liao)制成，磨(mo)(mo)料(liao)(liao)(liao)可采(cai)用碳化硅(gui)粉末。

   磁研磨拋光(guang)

   磁(ci)研磨(mo)拋(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)是利(li)用磁(ci)性(xing)磨(mo)料(liao)(liao)在磁(ci)場作用下形成磨(mo)料(liao)(liao)刷，對工(gong)件(jian)磨(mo)削加工(gong)。這種方(fang)(fang)(fang)法(fa)(fa)加工(gong)效率高，質量好(hao)(hao)，加工(gong)前(qian)提(ti)輕易控制(zhi)，工(gong)作前(qian)提(ti)好(hao)(hao)。采用合適的(de)磨(mo)料(liao)(liao)，表(biao)(biao)面(mian)(mian)(mian)(mian)(mian)粗(cu)拙度(du)可以(yi)達(da)到(dao)Ra0.1μm。 2 機(ji)械(xie)拋(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)基(ji)本(ben)方(fang)(fang)(fang)法(fa)(fa) 在中(zhong)所說的(de)拋(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)與其他行業中(zhong)所要求(qiu)(qiu)的(de)表(biao)(biao)面(mian)(mian)(mian)(mian)(mian)拋(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)有很大的(de)不同，嚴格來說，模具(ju)的(de)拋(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)應該稱為(wei)(wei)鏡面(mian)(mian)(mian)(mian)(mian)加工(gong)。它(ta)不僅對拋(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)本(ben)身有很高的(de)要求(qiu)(qiu)并且對表(biao)(biao)面(mian)(mian)(mian)(mian)(mian)平整度(du)、光(guang)(guang)(guang)(guang)滑度(du)以(yi)及幾(ji)何(he)精確度(du)也有很高的(de)尺度(du)。表(biao)(biao)面(mian)(mian)(mian)(mian)(mian)拋(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)一般只要求(qiu)(qiu)獲得光(guang)(guang)(guang)(guang)亮的(de)表(biao)(biao)面(mian)(mian)(mian)(mian)(mian)即可。鏡面(mian)(mian)(mian)(mian)(mian)加工(gong)的(de)尺度(du)分為(wei)(wei)四級：AO=Ra0.008μm，A1=Ra0.016μm，A3=Ra0.032μm，A4=Ra0.063μm，因為(wei)(wei)電解拋(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)、流體拋(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)等方(fang)(fang)(fang)法(fa)(fa)很難(nan)精確控制(zhi)零件(jian)的(de)幾(ji)何(he)精確度(du)，而化學(xue)拋(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)、超聲(sheng)波拋(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)、磁(ci)研磨(mo)拋(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)等方(fang)(fang)(fang)法(fa)(fa)的(de)表(biao)(biao)面(mian)(mian)(mian)(mian)(mian)質量又達(da)不到(dao)要求(qiu)(qiu)，所以(yi)精密(mi)模具(ju)的(de)鏡面(mian)(mian)(mian)(mian)(mian)加工(gong)仍(reng)是以(yi)機(ji)械(xie)拋(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)為(wei)(wei)主(zhu)。